侵权投诉
订阅
纠错
加入自媒体

Intel 5nm工艺曝光 效能直追台积电2nm

2021-06-04 18:19
来源: 快科技

在先进半导体工艺上,Intel目前最新的是10nm工艺,已经落后于台积电、三星。新上任的CEO基辛格决心用几年时间重新超越,未来几年将会投入200亿美元建设先进工艺晶圆厂。

Intel下一个目标是7nm工艺,这几天的台北电脑展上,基辛格称司已经完成7nm Meteor Lake芯片的“Tape-in”。Tape-in在Tape-Out(流片)前,大概是IP模块完成设计验证阶段。

Meteor Lake(流星湖)是Intel第一代7nm客户端处理器,计划2023年开始出货,7nm数据中心处理器Granite Rapids也会在同年交付。

再往下就是5nm工艺了,Intel官方是没有给出什么明确信息,不过有投行分析师透露了5nm工艺的水平,晶体管密度大约在400MTr/mm2,也就是每平方毫米4亿晶体管,差不多是Intel 10nm工艺的4倍了。

对比其他厂商呢?专家指出台积电的2nm工艺的晶体管密度也就是500MTr/mm2,5亿晶体管每平方毫米,双方的密度差距只有20%左右,Intel 5nm效能与台积电2nm差不多。

但是台积电的优势是在成本上,而且量产的时间也会更早,毕竟2nm工厂已经取得土地,Intel这边7nm工厂还在建设中,5nm量产还早。

声明: 本文系OFweek根据授权转载自其它媒体或授权刊载,目的在于信息传递,并不代表本站赞同其观点和对其真实性负责,如有新闻稿件和图片作品的内容、版权以及其它问题的,请联系我们。

发表评论

0条评论,0人参与

请输入评论内容...

请输入评论/评论长度6~500个字

您提交的评论过于频繁,请输入验证码继续

暂无评论

暂无评论

    物联网 猎头职位 更多
    扫码关注公众号
    OFweek物联网
    获取更多精彩内容
    文章纠错
    x
    *文字标题:
    *纠错内容:
    联系邮箱:
    *验 证 码:

    粤公网安备 44030502002758号