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3D V-NAND闪存技术再度领跑!三星也遥遥领先

全球存储技术领头羊三星电子,一直以开创性的技术研究和产品创新在业界独领风骚。近期,它又向全球展示了其在闪存技术领域的深厚实力。

10月19日消息,三星电子作为全球最大的NAND闪存供应商之一,正积极推进其V-NAND(又称为3D NAND)闪存技术的发展,引领着3D NAND闪存技术的未来。最新消息显示,三星计划推出业内层数最多的第九代V-NAND闪存,层级高达超过300层。

V-NAND闪存,又被称为3D NAND,是三星电子公司开发的一种3D NAND闪存技术。相比于传统的二维闪存,V-NAND闪存具有更高的存储密度和更强的耐久性。通过将存储单元垂直堆叠,V-NAND实现了在单位面积内存储更多的数据,同时也大大提高了数据传输的速度。

三星电子总裁兼存储器事业部负责人李政培(Lee Jung-Bae)在博客文章中表示:“三星电子的V-NAND技术以其独特的架构和设计,实现了存储密度和性能的双重提升。我们致力于在全球范围内引领3D NAND技术的未来,为全球用户提供更快速、更稳定、更可靠的存储产品。”

他指出第九代V-NAND将采用双层结构,并预计将于明年初开始量产。这一消息早在8月份就曾传闻,当时便有消息称三星正在研发第九代V-NAND,层级将超过300层,依然延续三星自2020年首次采用的双层技术。与目前竞争对手SK 海力士的下一代321层3D NAND相比,三星的第九代V-NAND层数将更多,进一步巩固了三星在3D NAND技术领域的领先地位。

从全球存储市场的发展趋势来看,3D NAND技术已经成为主流。而三星电子在其中扮演的角色,可以说是关键的推动者。第九代V-NAND闪存的推出,无疑将进一步巩固三星在全球存储市场的领导地位。

对于超过300层的第九代V-NAND闪存,业内人士普遍认为,这代表了三星电子在闪存技术领域的最新突破。这一创新性的技术,不仅将重新定义存储的可能性,也将引领整个行业进入一个新的里程碑。

这一层级的提升将使三星能够显著提高其3D NAND设备的存储密度,不仅能够实现更大的存储容量,还将提高性能。李政培表示:“三星还在积极研究下一代技术,包括一种新的结构,能够最大化V-NAND的输入/输出(I/O)速度。”

目前,尚不清楚第九代V-NAND在性能方面的具体表现,但可以预见,三星将利用这一技术来生产即将推出的固态硬盘,可能会采用PCIe Gen5接口,为用户提供更快速的数据传输速度。

三星电子的V-NAND闪存技术再次走在了全球存储行业的前列。未来,我们有理由期待三星电子将以更先进、更创新的技术,为全球用户带来更多卓越的产品和服务。

从长远来看,三星还在努力实现技术创新,致力于降低单元干扰,减小设备尺寸,最大化垂直层数,以实现业内最小的单元尺寸。这些创新将对三星未来的技术愿景产生关键影响,有望推动三星实现拥有超过1000层的3D NAND以及高度差异化的存储器解决方案。

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